首页>>郑州成越科学仪器有限公司>>产品展示>>CVD系统
三温区PECVD气相沉积石墨烯制备 参考价：60000
三温区PECVD气相沉积石墨烯制备由等离子发生器，三温区管式炉、射频电源、真空系统组成。等离子增强CVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的...
PECVD气相沉积 参考价：60000
PECVD气相沉积（等离子体增强化学气相沉积）是一种化学气相沉积技术，在材料科学、半导体制造等众多领域有广泛的应用。
CVD化学气相沉积系统 参考价：60000
CVD化学气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域，用于制备各种功能性薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等...
等离子增强化学气相沉积设备 参考价：60000
等离子增强化学气相沉积设备采用等离子体增强型化学气相沉积技术，基本温度低，沉积速率快，在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等...
全自动CVD滑轨炉 参考价：50000
全自动CVD滑轨炉系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温；四路质子流量计能够准确控制系统的供气；真空泵可...
1200℃单温区三通道混气CVD系统 参考价：50000
1200℃单温区三通道混气CVD系统由单温区管式炉和三路浮子流量计组成。由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温程序，同时有过热和断偶?；すδ?。炉管两侧...
三温区1600 CVD系统 参考价：50000
该三温区1600 CVD系统主要用于真空烧结、气氛?；ば陨战帷⒄婵斩颇?各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验
1700℃两路浮子供气氢气还原CVD系统 参考价：50000
1700℃两路浮子供气氢气还原CVD系统可以用于抽真空和通气氛，所以又叫真空管式炉和气氛管式炉。炉管材质采用高纯氧化铝,*高可在1650℃的高温工作。为了匹配通...
1200℃三温区3路质量供气高真空CVD系统 参考价：50000
1200℃三温区3路质量供气高真空CVD系统由三温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵组组成。管式炉三个温区分别由精密控温仪表独立控温，通过调节各个温区的温度...
1500℃单温区3路质量流量计高真空CVD系统 参考价：50000
1500℃单温区3路质量流量计高真空CVD系统由1500℃单温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵组组成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降...
高真空CVD系统 参考价：102800
1200℃双温区三路气体高真空CVD系统，真空度可达6.67x10-6Pa），两个温区独立控制加热，实验操作更加方便。超高温加热元件，额定工作温度可达1150℃...
1600三温区CVD系统CY-O1600-60IIIC-3ZV10 参考价：112800
该三温区1600 CVD系统主要用于真空烧结、气氛?；ば陨战?、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验
1